其中微纳加工实验室主要提供测试所必须的微纳结构与器件的制备需求;样品预选和表征实验站主要提供样品的制备、处理和初步的常规表征,用来筛选高质量的样品;机械加工厂和电子学工厂主要为各功能模块的设计、制作及功能拓展等提供技术服务;低温液氦工厂主要提供液氦保障低温实验需求;高压用户辅助实验室主要为高温高压大体积材料研究平台提供样品的制备、处理和初步的常规表征。
其中微纳加工实验室主要提供测试所必须的微纳结构与器件的制备需求;样品预选和表征实验站主要提供样品的制备、处理和初步的常规表征,用来筛选高质量的样品;机械加工厂和电子学工厂主要为各功能模块的设计、制作及功能拓展等提供技术服务;低温液氦工厂主要提供液氦保障低温实验需求;高压用户辅助实验室主要为高温高压大体积材料研究平台提供样品的制备、处理和初步的常规表征。
| 主要功能 | 主要指标 |
| 电子束曝光 | 最小线宽为8 nm |
| 紫外曝光 | 最小线宽为0.5 μm |
| 激光直写 | 分辨率为600 nm |
| 硅材料刻蚀 | 最小线宽30 nm,最高深宽比30:1,侧壁倾斜角度85°-92°可调 |
| 参数 | 指标 |
| MBE适合III-V族的二维电子气样品生长 | 生长速率1000 nm/小时 |
| 表面形貌分析 | 成像分辨率1 nm |
| 稀释制冷机及测量系统 | 最低温10mK,最大磁场14T |
| 光谱测量范围 | 1 μm~200 nm |
| 参数 | 指标 |
| 激光切割系统线性系统 | 定位速度0.5-15毫米/秒,定位精度0.05毫米 |
| 示波器 | 33 GHz 模拟带宽,4 个模拟通道,80 GSa/s 的采样率和 2 Gpts 采集存储器 |
| 参数 | 指标 |
| 液化率 | 130L/h |
| 回收率 | 105 m³/h |